532 nm激光照射碳纳米管光场致发射电子枪

• 作者: 俞铁民 孙启龙 戴志敏 林国强 王兴涛 陆善良
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 电子枪 碳纳米管 光场致发射 量子效率
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 加速器技术
• 页码范围: 145-148
• 页数: 4页
• 分类号: TL503.3
• 字数: 618字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102201.0145

摘要

报道了碳纳米管光场致发射电子枪的初步研究结果.在532 nm激光照射下碳纳米管光场致发射电子枪在极间高压为27 kV时得到的最大的脉冲流强可以达到3.364 A,其脉冲电流发射密度可达6.728 A/cm~2,对应脉冲电荷量为38.7 nC.碳纳米管的量子效率通过公式计算为3.73×10~(-5),给出了在532 nm激光照射下碳纳米管光场致发射电子枪发射电流随激光功率和极间电压的变化关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴志敏	中国科学院上海应用物理研究所	34	152	5.0	11.0
2	林国强	中国科学院上海应用物理研究所	27	273	9.0	16.0
3	孙启龙	中国科学院上海应用物理研究所	5	15	2.0	3.0
4	王兴涛	中国科学院上海应用物理研究所	7	30	2.0	5.0
5	陆善良	中国科学院上海应用物理研究所	1	0	0.0	0.0
6	俞铁民	中国科学院上海应用物理研究所	1	0	0.0	0.0