离体上颌第二磨牙髓腔研究及其临床意义

• 作者: 卢鹏 李健 杨冬茹 杨莹 马福军
• 来源期刊: 牙体牙髓牙周病学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 上颌第二磨牙 髓腔 髓腔底
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 721-723
• 页数: 3页
• 分类号: R780.2|R781.33
• 语种: 中文

摘要

目的:观察上颌第二磨牙髓腔底解剖形态以及根管口数目和位置.为临床根管口的定位和治疗提供实验室依据.方法:将收集的213个离体上颌第二磨牙于颈部横截,观察髓腔底和底沟的形态特征以及根管口的位置.结果:根管口多位于髓腔壁和髓腔底的交汇处,或位于髓腔底沟的顶端."Y"型髓底沟的发生率为60.6%,呈"7"型的髓底沟的发生率为22.1%,上述根管口均与髓底沟相接.结论:上颌第二磨牙的髓腔底形态复杂,根管口大都位于髓腔壁和髓腔底的交汇处,或位于髓腔底沟的顶端.因此,保持髓腔底的自然形态将有利于寻找根管口.