磁流变抛光消除磨削亚表面损伤层新工艺

• 作者: 彭小强 戴一帆 王卓 石峰
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 亚表面损伤 光学加工
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 162-168
• 页数: 7页
• 分类号: TQ171.684
• 字数: 1839字
• 语种: 中文

摘要

针对传统光学加工技术难于精确测量和控制亚表面损伤的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序并直接衔接磨削的新工艺流程.采用自行研制的磁流变抛光机床KDMRF-1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验研究.结果显示,直径为100 mm的K9材料平面玻璃,经过156 min的磁流变粗抛,去除了50 μm深度的亚表面损伤层,表面粗糙度Ra值进一步提升至0.926 nm,经过17.5 min磁流变精抛,去除玻璃表面200 nm厚的材料,并消除磁流变粗抛产生的抛光纹路,表面粗糙度Ra值提升至0.575 nm.由此表明,应用磁流变抛光可以高效消除磨削产生的亚表面损伤层,提出的新工艺流程可以实现近零亚表面损伤和纳米级精度抛光两个工艺目标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	64	1121	16.0	32.0
2	王卓	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	8	232	7.0	8.0
3	彭小强	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	26	313	10.0	17.0
4	石峰	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	14	144	6.0	12.0