双液体层消色差氩氟浸没干涉光刻性能分析

• 作者: 周远 李艳秋
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 成像系统 浸没干涉光刻 消色差 相干性 焦深
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 3007-3012
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103712.3007

摘要

氩氟(ArF)浸没干涉光刻系统可产生高分辨周期图形,是研究高数值孔径ArF浸没光刻的有力工具.消色差ArF浸没干涉光刻系统能降低系统对曝光光源的相干性要求,实现高分辨率成像.提出了一种双液体层消色差浸没干涉光刻系统,由衍射理论和几何光学理论分析了系统的消色差原理和成像机制.对比传统的单液体层系统分析了其成像性能并分析其优点.结果表明,该系统的成像焦深和可分辨像场宽度较大且不依赖于激光光源的带宽;系统性能对外界环境不敏感,成像稳定性得到改善;该系统以简单的对称结构解决了干涉光刻成像中ArF准分子激光光源相干性差的问题,并保证了系统成像性能的稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋		57	202	7.0	13.0
2	周远		11	45	4.0	6.0