基于二次曝光切趾技术的光纤光栅边模抑制性能研究

• 作者: 冉洋 刘伟平 吴霞 熊松松
• 来源期刊: 仪表技术与传感器
• 学科: 工学
• 关键词: 布拉格光纤光栅 边模抑制 二次曝光切趾
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 69-70,73
• 分类号: TP274
• 字数: 1875字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1841.2010.05.025

摘要

介绍了通过二次曝光来获取折射率直流分量的方法从而达到光纤光栅(FBG)反射谱切趾效果.在与基于不同的变迹光束所获得单次曝光切趾光纤光栅反射谱的横向比较和分析后,表明二次曝光切趾技术(二次切趾)的光纤光栅在反射谱边模以及带宽抑制性能上具有更加优良的效果.为二次切趾光纤光栅应用于密集波分复用系统中提供了理论根据和有益的参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘伟平	暨南大学电子工程系	114	960	17.0	25.0
5	吴霞	暨南大学电子工程系	7	59	4.0	7.0
9	冉洋	暨南大学电子工程系	4	40	2.0	4.0