AZ91D镁合金化学镀Ni-P的沉积机制

• 作者: 刘玉芬 滕晓明 钱建刚 黄巍
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: AZ11D镁合金 Ni-P镀层 沉积
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 1593-1597
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 4192字
• 语种: 中文

摘要

利用金相显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)等分析测试手段,研究AZ91D镁合金上直接化学电镀Ni-P的沉积过程.结果表明:活化后的表面上不同位置处最初沉积Ni的过程不同.在活化后的块状物上,由于氟化物的溶解,Mg置换出Ni,因此最初"块状物"上只有Ni沉积,没有P.β相和α相边缘则是由于其电位较高,附近的Ni2+得到Mg失去少量电子后还原沉积出高催化活性的Ni核,催化了次亚磷酸钠还原沉积出P和Ni.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钱建刚		39	470	13.0	20.0
2	黄巍		4	50	4.0	4.0
3	刘玉芬		2	26	2.0	2.0
4	滕晓明		2	23	2.0	2.0