不同工艺对TaN薄膜摩擦磨损性能影响研究

• 作者: 刘星 刘顺华 孙刚 段玉平 马国佳
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应磁控溅射 离子注入 TaN 磨损性能
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 212-215
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3149字
• 语种: 中文

摘要

采用微波增强的反应磁控溅射和离子注入法以及两者相结合的工艺制备了TaN系薄膜.通过X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶体结构,用微磨损仪和白光轮廓仪对样品的摩擦系数和磨损情况进行了检测和分析.结果表明,Ta离子注入与TaN沉积相结合的方式制备的薄膜耐磨损性能较好,其中Ta离子注入后沉积的Ta/TaN多层膜耐磨性能最好.说明此种工艺有效整合了两种工艺的优点,有利于薄膜力学性能的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段玉平		50	492	13.0	18.0
2	刘顺华		90	1573	21.0	34.0
3	马国佳	北京航空制造工程研究所高能束流加工技术国家级重点实验室	16	30	4.0	4.0
4	孙刚	北京航空制造工程研究所高能束流加工技术国家级重点实验室	25	183	7.0	12.0
5	刘星		8	19	3.0	4.0