疏水性Si02基减反膜稳定性研究

• 作者: 唐永兴 李海元 熊怀
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 减反膜 改性SiO2 稳定性 KDP晶体
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 3116-3120
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4+1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103712.3116

摘要

在SiO2,溶胶合成阶段进行化学改性,将六甲基二硅氮烷(HMDS)引人SiO2溶胶,制得稳定的胶体,胶体中SiO2纳米颗粒表面的亲水性Si-OH基团被疏水性的Si-O-Si(CH3)3基团取代.采用旋转法在磷酸二氢钾(KDP)晶体表面涂膜,涂膜晶体峰值透射率99%以上.膜层光学均匀性良好,表面粗糙度均方根值为0.94nm.膜层疏水性能好,水接触角达到140°.涂制疏水性SiO2基减反膜的KDP晶体无需热处理就具有较好的疏水防潮性能,与目前激光器使用的防潮-减反双层膜相比,在室温高湿度条件下涂膜晶体透射率下降情况大致相当.旋转涂膜可以有效解决三倍频晶体入光面与出光面共3个波段需减反的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李海元	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	56	4.0	7.0
2	唐永兴	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	63	5.0	7.0
3	熊怀	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	0	0.0	0.0