MPIIID制备TiAIN涂层的高温抗氧化及摩擦性能

• 作者: 王小峰 王浪平 解志文 闫久春 陆洋 黄磊
• 来源期刊: 摩擦学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 多源等离子体注入与沉积(MPIIID) TiAlN涂层 氧化 摩擦
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 175-180
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

采用多源等离子体注入与沉积(MPIIID)装置制备了不同Al含量的TiAlN涂层,利用X射线能谱仪(EDX)、扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、纳米探针和摩擦试验对涂层的组成以及高温抗氧化和摩擦性能进行分析.结果表明:Al元素的加入明显提高了涂层的高温抗氧化能力,生成的Al2O3能有效地抑制氧的扩散;当Al的原子百分数为6.18%时,涂层硬度最高,约为38 GPa,涂层具有良好的摩擦磨损特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫久春	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	86	817	17.0	23.0
2	黄磊	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	21	127	7.0	10.0
3	王浪平	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	42	276	9.0	14.0
4	王小峰	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	35	258	9.0	14.0
5	解志文	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	6	48	4.0	6.0
6	陆洋	哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室	8	48	4.0	6.0