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TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析
TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析
作者:
刘志超
卫耀伟
陈松林
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜光学
原子层沉积
激光损伤
增透膜
摘要:
采用原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2/Al2O3薄膜,沉积温度分别为110 ℃和280℃.利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值测量.采用Nomarski 微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析.结果表明,采用原子层沉积技术镀制的TiO2/Al2O3增透膜的厚度均匀性较好,φ50 mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1 064 nm处的透过率>99.8%;在熔石英和BK7基片上,TiO2/Al2O3薄膜在110℃时的激光损伤阈值分别为(6.73±0.47)J/cm2和(6.5 ±0.46)J/cm2,明显高于在280℃时的损伤阈值.
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文献信息
篇名
TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析
来源期刊
中国光学
学科
物理学
关键词
薄膜光学
原子层沉积
激光损伤
增透膜
年,卷(期)
2011,(2)
所属期刊栏目
光学薄膜
研究方向
页码范围
188-195
页数
分类号
O484.4
字数
3009字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.2095-1531.2011.02.014
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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G指数
1
刘志超
16
86
6.0
8.0
2
陈松林
23
92
6.0
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3
卫耀伟
7
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4.0
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引证文献(0)
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研究主题发展历程
节点文献
薄膜光学
原子层沉积
激光损伤
增透膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国光学
主办单位:
中国科学院长春光学
精密机械与物理研究所
中国光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
2095-1531
CN:
22-1400/O4
开本:
大16开
出版地:
吉林省长春市东南湖大路3888号
邮发代号:
12-140
创刊时间:
1985
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
8
总被引数(次)
11606
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