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摘要:
采用原子层沉积技术在熔石英和BK7玻璃基片上镀制了TiO2/Al2O3薄膜,沉积温度分别为110 ℃和280℃.利用X射线粉末衍射仪对膜层微观结构进行了分析研究,并在激光损伤平台上进行了抗激光损伤阈值测量.采用Nomarski 微分干涉差显微镜和原子力显微镜对激光损伤后的形貌进行了观察分析.结果表明,采用原子层沉积技术镀制的TiO2/Al2O3增透膜的厚度均匀性较好,φ50 mm样品的膜层厚度均匀性优于99%;光谱增透效果显著,在1 064 nm处的透过率>99.8%;在熔石英和BK7基片上,TiO2/Al2O3薄膜在110℃时的激光损伤阈值分别为(6.73±0.47)J/cm2和(6.5 ±0.46)J/cm2,明显高于在280℃时的损伤阈值.
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文献信息
篇名 TiO2/Al2O3薄膜的原子层沉积和光学性能分析
来源期刊 中国光学 学科 物理学
关键词 薄膜光学 原子层沉积 激光损伤 增透膜
年,卷(期) 2011,(2) 所属期刊栏目 光学薄膜
研究方向 页码范围 188-195
页数 分类号 O484.4
字数 3009字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.2095-1531.2011.02.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘志超 16 86 6.0 8.0
2 陈松林 23 92 6.0 7.0
3 卫耀伟 7 20 3.0 4.0
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中国光学
双月刊
2095-1531
22-1400/O4
大16开
吉林省长春市东南湖大路3888号
12-140
1985
chi
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