异丙醇溶液对单晶硅太阳能电池表面织构化的影响

• 作者: 周炳卿 王立娟 那日苏 郝丽媛 金志欣 韩兵
• 来源期刊: 内蒙古师范大学学报（自然科学汉文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 太阳能电池 单晶硅片 表面形貌 反射率 异丙醇 碳酸钠
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 42-45
• 分类号: TK514
• 字数: 1944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8735.2011.01.011

摘要

对晶向为(100)的p型单晶硅片进行表面刻蚀,制作减反射绒面.在质量分数为3%的氢氧化钠溶液中分别加入不同质量分数的异丙醇溶液,在温度为80℃、时间为40 min的条件下对单晶硅片进行刻蚀.实验结果显示,加入质量分数为8%的异丙醇溶液刻蚀的硅片表面形貌最好,在波长为700～900nm范围内能够获得较低的反射率,最佳反射率为10.42%.保持实验条件不变,在氢氧化钠-异丙醇混合液中分别加入不同质量分数的碳酸钠溶液,对单晶硅片进行刻蚀.实验结果显示,加入质量分数为0.5%的碳酸钠溶液对制作绒面的反射率影响不大,加入质量分数为0.3%的碳酸钠溶液使制作绒面的反射率大大提高,不利于制作绒面的形成.