单晶硅太阳能电池前表面化学腐蚀研究

• 作者: 李愿杰 胡蕴成 黄仑
• 来源期刊: 东方电气评论
• 学科: 工学
• 关键词: 制绒工艺 腐蚀深度 金字塔结构
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 光伏发电
• 页码范围: 68-73
• 分类号: TM914.4
• 字数: 2919字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9006.2011.04.013

摘要

制绒工艺是晶硅太阳能电池产业化研究的重要方向之一.本文对德国Rena公司的湿法腐蚀制绒设备进行了工艺流程的简要概括,在产业化环境中对硅片表面的化学处理工艺进行了研究.通过研究分析,自制的GP溶液能有效的降低溶液表面张力并改善单晶硅片表面的浸润效果；湿法腐蚀后,硅片表面绒面结构清晰,金字塔形状均匀,底座大小在2～3μm左右；由腐蚀深度变化曲线分析可知,各腐蚀槽腐蚀深度值92％都集中在7.5～8.5之间,接近最优化腐蚀深度,碎片率低于5‰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李愿杰		6	53	4.0	6.0
2	黄仑		2	5	1.0	2.0
3	胡蕴成		4	8	2.0	2.0