UV/H2O2高级氧化工艺反应机理与影响因素最新研究进展

• 作者: 刘杨先 张军
• 来源期刊: 化学工业与工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外光 高级氧化 紫外光/过氧化氢 反应机理 影响因素
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 专论与综述
• 页码范围: 18-24
• 分类号: TK16
• 字数: 6700字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7906.2011.03.006

摘要

UV/H2O2高级氧化工艺具有工艺流程简单、氧化能力强、H2O2利用率高以及无二次污染等优点,显示出良好的发展潜力和应用前景.介绍了UV/H2O2高级氧化工艺的反应机理,并在此基础上着重对影响UV/H2O2反应过程的主要工艺参数(紫外光强度、紫外光波长、H202浓度、溶液温度、污染物初始浓度、初始pH值以及溶液中无机阴离子)进行了综述.对目前该技术存在的问题以及发展方向作了简单的总结与展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张军	东南大学能源与环境学院	129	1380	21.0	32.0
2	刘杨先	东南大学能源与环境学院	11	188	7.0	11.0