高次模多注速调管同轴输出腔性能改进的研究

• 作者: 张瑞 王勇 韩慧鹏
• 来源期刊: 电子与信息学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高次模多注速调管 同轴输出腔 杂模抑制 外观品质因数 场分布
• 年，卷（期）: 2011,（8）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1981-1987
• 分类号: TN122
• 字数: 5250字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1146.2010.01308

摘要

该文针对工作在TM310模的多注速调管同轴输出腔中工作模式的场分布均匀性、外观品质因数及其与邻近模式的频率间隔等问题进行了研究,提出了一种带有短路杆和金属环的多注速调管同轴输出腔结构.分析发现,适当设置短路杆和金属环不仅可以使外观品质因数降低,还可以改善工作模式的场分布；而且设置金属环还可以增大TM310模和邻近模式的频率间隔以实现抑制杂模.利用仿真软件对X波段的同轴输出腔进行了模拟计算,计算结果与理论分析一致.在此基础上加工了冷测模型,测试结果表明TM310模与邻近模式的频率间隔均达到了1.2 GHz以上,外观品质因数从507.4降至193.5,工作模式的场分布也变得均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王勇	中国科学院电子学研究所中国科学院高功率微波源与技术重点实验室	507	5142	33.0	48.0
2	张瑞	中国科学院电子学研究所中国科学院高功率微波源与技术重点实验室	62	318	11.0	14.0
6	韩慧鹏	中国科学院电子学研究所中国科学院高功率微波源与技术重点实验室	4	32	4.0	4.0