残留溶剂对聚酰亚胺气体分离膜性能的影响

• 作者: 孔瑛 张玉忠 杨金荣 马诚
• 来源期刊: 天津工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚酰亚胺膜 热处理 残留溶剂 气体分离性能
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 纤维新材料
• 页码范围: 5-7
• 分类号: TS102.54|TQ028.8
• 字数: 2451字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-024X.2011.05.002

摘要

以3,3′,4,4 ′-二苯甲酮四酸二酐(BTDA)和2,4,6-三甲基-1,3-苯二胺(TMMPD)为单体,以N-甲基吡咯烷酮(NMP)为溶剂,通过低温缩聚-化学亚胺化法合成酮酐型聚酰亚胺(PI( BTDA-TMMPD))；在303～423 K温度下对制备的聚酰亚胺均质膜进行真空后处理,考察溶剂残留量变化及其对膜气体透过性能和分离性能影响.结果表明:经303～373 K真空热处理后,均质膜失重约占全部处理过程中总失重的80％.在373～423 K真空处理过程中,聚酰亚胺膜残留溶剂量变化趋于平稳；当溶剂残留率为1.74％时,膜对H2气体透过系数及H2/N2、O2/N2的理想分离系数达到最大值；当溶剂残留率为0.95％时,膜对H2、N2、O2及CH4的透过性能均下降,而CO2透过系数及CO2/CH4、CO2/N2理想分离系数出现极大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张玉忠	天津工业大学中空纤维膜材料与膜过程省部共建重点实验室	57	338	11.0	16.0