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摘要:
综合已有作物模型的优点,构建了水稻冠层光分布模型,并进一步与原有光合作用和干物质生产模型相耦合,构建了水稻光合生产模型.新模型将水稻冠层按叶面积指数划分为5层,各层次水平面上的太阳辐射强度按Monsi和Saeki的指数模型进行分布;模型利用日照百分率资料推算直接辐射与散射辐射,并考虑了光合有效辐射的日变化、冠层结构和太阳位置对直接辐射消光系数的影响.利用独立的水稻田间试验资料,对主要生育期冠层内的光分布进行了初步验证,结果表明模拟值与观测值之间具有较好的一致性.最后,将基于冠层光分布模型与原有光合生产模型进行了比较,预测水稻干物质积累量的根均方差分别为0.74 t/hm2和1.26 t/hm2,建立的基于冠层光分布模型的预测性较好.研究结果将为水稻生长模型的改进完善以及生产管理调控与品种数字化设计奠定基础.
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文献信息
篇名 水稻冠层光分布模拟与应用
来源期刊 中国水稻科学 学科 农学
关键词 水稻 光分布 光合作用 干物质积累 模拟模型
年,卷(期) 2011,(4) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 427-434
页数 分类号 S-03|S161.1|S511.01
字数 6410字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-7216.2011.04.013
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水稻
光分布
光合作用
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研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国水稻科学
双月刊
1001-7216
33-1146/S
大16开
杭州市体育场路359号中国水稻研究所内
32-94
1986
chi
出版文献量(篇)
2058
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1
总被引数(次)
62808
论文1v1指导