铁电刻蚀的研究进展

• 作者: 刘黎明 曾华荣 李国荣 杨培志 殷庆瑞
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电刻蚀 铁电畴图形化 纳米器件 扫描探针显微术 微电极 电子束
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 58-62,68
• 分类号: TB34|TN305.7
• 字数: 4044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2011.01.011

摘要

铁电刻蚀是一种新颖的刻蚀技术,在铁电研究领域日益受到重视.对铁电刻蚀的研究现状进行了综述.首先介绍了铁电极化对铁电材料表面性能的影响,然后详细阐述了铁电畴图形化的三种方法,即微电极图形化、扫描探针图形化和电子束图形化,并分析了它们的图形化机制和特点.其中微电极方法的铁电畴图形的最小尺寸为微米量级,而扫描探针和电子束方法的铁电畴图形的最小尺寸可小于100 nm.与铁电畴定位的表面反应相结合,铁电刻蚀可为纳米结构的制造提供新的途径,因此在纳米器件领域具有广泛的应用前景.未来铁电刻蚀技术发展的方向是在改进铁电刻蚀技术的同时推进其在纳米器件制造中的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘黎明		24	160	7.0	12.0
3	李国荣	中国科学院上海硅酸盐研究所	49	676	14.0	24.0
4	曾华荣	中国科学院上海硅酸盐研究所	17	128	6.0	11.0
5	殷庆瑞	中国科学院上海硅酸盐研究所	49	684	15.0	24.0
6	杨培志	云南师范大学太阳能研究所	42	68	5.0	6.0