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多孔硅制备的二维光子晶体生长过程监控
多孔硅制备的二维光子晶体生长过程监控
作者:
刘洪利
崔宗敏
张轩雄
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
二维光子晶体
多孔硅
电化学腐蚀
虚拟仪器
摘要:
采用单槽电化学腐蚀法在预置有倒金字塔结构的n型单晶硅上制备用于二维光子晶体的多孔硅。利用基于LabVIEW的虚拟仪器技术对实验仪器编程,搭建实时测控系统,实现对反应过程中所需电源的控制,并且实时显示采集到的随时间变化的电压和电流信号,将采集的数据存储在计算机里。实验表明,恒电流供电模式下致使电压剧烈变动,导致多孔硅侧向腐蚀严重,然而,恒电压供电模式下,能够有效地抑制侧向腐蚀。
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文献信息
篇名
多孔硅制备的二维光子晶体生长过程监控
来源期刊
光学与光电技术
学科
化学
关键词
二维光子晶体
多孔硅
电化学腐蚀
虚拟仪器
年,卷(期)
2011,(6)
所属期刊栏目
光纤与光通信
研究方向
页码范围
59-62
页数
分类号
O646
字数
2303字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-3392.2011.06.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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G指数
1
崔宗敏
上海市现代光学系统重点实验室上海理工大学光电信息与计算机工程学院
1
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2
刘洪利
上海市现代光学系统重点实验室上海理工大学光电信息与计算机工程学院
1
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传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
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多孔硅
电化学腐蚀
虚拟仪器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
总被引数(次)
9791
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