基于渐近解的成像电子光学近轴横向像差理论及其验证

• 作者: 公慧 周立伟
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子光学成像系统 静电阴极透镜 电子光学的像差理论 近轴横向像差 近轴放大率色差
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 619-625
• 分类号: O463
• 字数: 7450字
• 语种: 中文

摘要

在成像电子光学系统的横向像差中,近轴像差是整个像面普遍存在、且影响图像中心像质的主要像差,并决定了系统的极限分辨率.本文由电子光学近轴方程的渐近解推导了近轴横向像差的普遍表示式,并通过一两电极静电同心球系统,推导了近轴轨迹特解的渐近解和精确解的解析表示,给出了二级和三级近轴色球差以及三级近轴放大率色差的表达式,证明了基于渐近解求解成像电子光学系统的近轴横向像差的途径是可行的和足够精确的.文中给出的近轴横向像差的简明形式对于成像电子光学系统的像差研究和像管设计具有实际意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周立伟	北京理工大学光电学院	48	311	8.0	16.0
2	公慧	北京理工大学光电学院	5	15	3.0	3.0