非晶态合金薄膜铜衬底超精密抛光的实验研究

• 作者: 任尹飞 吕冰海 朱从容 邓乾发
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 合金薄膜 铜衬底 超精抛光 表面形成过程
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 58-61
• 分类号: TQ164|TG74
• 字数: 2453字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-852X.2011.01.014

摘要

本文采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫对铜衬底进行超精密抛光工艺研究,对铜衬底的表面粗糙度、材料去除率以及铜衬底表面组织结构变化过程进行了研究,并讨论了铜衬底在超精密抛光时,不同抛光条件对其表面粗糙度和材料去除率的影响,以及抛光压力对铜衬底的表面形成过程的影响.结果表明,采用聚氨酯抛光盘和绒布抛光垫可以消除划痕,抛光后的铜衬底表面粗糙度可达Ra6nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕冰海	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	10	419	5.0	10.0
2	朱从容	浙江海洋学院机电工程学院	43	267	10.0	13.0
3	邓乾发	浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部重点实验室	29	152	7.0	10.0
4	任尹飞		1	4	1.0	1.0