室温常压溶液法合成烯丙基功能化的正六边形硅纳米晶体

• 作者: 孙树清 王晶
• 来源期刊: 中国科学（物理学 力学 天文学）
• 关键词: 纳米晶体 晶体硅 表面修饰
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 纳米材料与器件专题
• 页码范围: 1041-1045
• 页数: 5页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/132011-577

摘要

室温常压下,以氢化铝锂为还原剂在溶液中还原烯丙基三氯硅烷和四氯化硅体系,制备了烯丙基功能基团修饰的正六边形硅单晶.采用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)和傅里叶变换红外光谱(Fourier Transform Infrared,FTIR)对产物进行表征.研究了硅晶体的尺寸分布、晶面取向及表面组成,推测了可能的反应机理.结果表明,三氯硅烷与四氯化硅浓度比为1∶3时经过还原可生成尺寸为20～50nm,表面有烯丙基基团的(111)晶向的单晶硅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晶		1	0	0.0	0.0
2	孙树清		1	0	0.0	0.0