羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅

• 作者: 何佳音 周健 郝学辉 马志领
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 沉淀二氧化硅 羟基硅油 原位改性 疏水性 相容性
• 年，卷（期）: 2011,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 36-38
• 分类号: TQ127.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4990.2011.03.011

摘要

采用羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅.红外光谱(FT-IR)分析表明,羟基硅油通过化学键接枝到二氧化硅表面.扫描电镜(SEM)分析表明,原位改性改善了沉淀二氧化硅的团聚现象,使之分散性提高,与有机基体聚丙烯树脂的相容性增大.疏水性测试表明,羟基硅油203-B和203-D的用量(羟基硅油与原料中二氧化硅的质量比)达到17.9%时,疏水度分别达到24.59%和22.17%,羟基硅油相对分子质量越小,羟基含量越高,改性效果越明显.原位改性使沉淀二氧化硅吸油率降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马志领	河北大学化学与环境科学学院	50	538	13.0	22.0
2	周健	河北大学化学与环境科学学院	7	22	2.0	4.0
3	郝学辉	河北大学化学与环境科学学院	1	8	1.0	1.0
4	何佳音	河北大学化学与环境科学学院	1	8	1.0	1.0