新型(口恶)二唑类衍生物的合成及荧光光谱分析

• 作者: 宋镕光 李东风 王云 谢志元 韩爽 马兴荣
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 化学
• 关键词: (口恶)二唑 吡唑 荧光 合成
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 37-40
• 分类号: O626.2
• 字数: 5603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2011.05.012

摘要

为了开发高强度的有机电致发光材料,在吡唑的1位上引入苯基以及苯并噻唑基,在3位上引入芳基,在4位上引入醛基.用一步法合成了1,3,4-(口恶)二唑,并通过Wittig反应将(口恶)二唑与4、甲酰基吡唑相连合成了6种未见报道的(口恶)二唑类化合物,用红外光谱、质谱、核磁共振谱和元素分析对合成化合物进行了结构表征.用荧光光谱仪对它们的荧光性能进行了测试,所合成化合物的荧光性能较好,荧光发射波长在410～440nm之间,并且荧光量子产率最高能达到0.68.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李东风	长春工业大学化学与生命科学学院	59	287	10.0	13.0
2	宋镕光	长春工业大学化学与生命科学学院	6	51	4.0	6.0
3	王云	长春工业大学化学与生命科学学院	6	40	3.0	6.0
4	马兴荣	长春工业大学化学与生命科学学院	1	8	1.0	1.0
5	韩爽	长春工业大学化学与生命科学学院	4	38	3.0	4.0
6	谢志元		1	8	1.0	1.0