微电子与等离子体技术的基础及应用研究

• 作者: 姜巍 孙继忠 宋远红 王友年
• 来源期刊: 国际学术动态
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体技术 微电子 应用 中国真空学会 大连理工大学 基础 PLASMA 中国力学学会
• 年，卷（期）: gjxsdt_2011,（6）
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TN41

摘要

第3届微电子与等离子体技术国际会议（The 3rd Intemational Conference on Microelectronics and Plasma Technology．ICMAP-2011）于2011年7月4-7日在大连富丽华大酒店召开。本次会议由韩国真空学会、中国真空学会、中国力学学会、韩国半导体与显示技术协会、日本应用物理学会等离子体电子学分会主办，大连理工大学承办。