Si(100)衬底上(110)取向La2/3Sr1/3MnO3薄膜的制备与性能

• 作者: 严辉 周文龙 张铭 李喜露 李廷先 李扩社 王光明 郭宏瑞
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 庞磁电阻 磁性材料 脉冲激光沉积 择优取向
• 年，卷（期）: 2011,（11）
• 所属期刊栏目: 功能材料
• 页码范围: 2857-2862
• 分类号: TB332
• 字数: 3223字
• 语种: 中文

摘要

用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜,研究了环境氧压对薄膜结晶度、取向、表面形貌和微结构的影响.结果表明:10 Pa氧压下沉积的薄膜具有高结晶度的(110)择优取向,晶粒分布均匀,晶粒分布均匀,表面均方根粗糙度Rrms为1.35 nm.与无明显择优取向的薄膜相比,(110)择优取向的La2/3Sr1/3MnO3薄膜具有较高的饱和磁化强度(Ms)、金属-绝缘体相变温度(TM-I)和较低的电阻率(ρ).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李扩社		7	23	3.0	4.0
2	严辉	北京工业大学材料学院	178	1225	16.0	29.0
3	张铭	北京工业大学材料学院	44	107	6.0	8.0
4	李廷先	北京工业大学材料学院	2	1	1.0	1.0
5	王光明	北京工业大学材料学院	2	1	1.0	1.0
6	郭宏瑞	北京工业大学材料学院	3	1	1.0	1.0
7	李喜露	北京工业大学材料学院	1	0	0.0	0.0
8	周文龙	北京工业大学材料学院	2	2	1.0	1.0