利用三光束激光干涉仪评估纳米平台的移动性能

• 作者: 徐淦 王世华 陈秀玲
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 电容式纳米平台 纳米位移传感器 激光干涉仪
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 光学精密工程暨纳米科技国际研讨会论文
• 页码范围: 2284-2292
• 分类号: TH703|TH744.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111909.2284

摘要

纳米位移传感器多集成在纳米平台的平行移动柔性机构中,通过闭环控制回路来实现纳米级的平台移动精度,本文介绍了利用具有亚纳米分辨率的三光束单频激光干涉仪校正纳米级电容式线性移动平台位移的工作,阐述了校正测试系统的布局以及线位移和角度位移的校正测试原理.通过实验成功地对移动线位移320 μm的纳米平台进行了校正,实验数据表明,该平台的偏摆最大角位移为3.5″.另外,对该校正系统进行了测量不确定度分析,在覆盖因子k=2时,它的扩展不确定度为(1.8+1.23×10-2 L)nm,测试长度L的单位是μm,由此显示该系统可有效评价纳米平台的移动性能.