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Sr和Nd掺杂对La9.33(SiO4)6O2电解质性能的影响
Sr和Nd掺杂对La9.33(SiO4)6O2电解质性能的影响
作者:
喻俊
田兴
胡威峰
陈亚男
鲁冕
黄志良
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
燃烧合成
硅酸镧
固体电解质
掺杂
离子电导率
摘要:
采用尿素-硝酸盐燃烧法对磷灰石型LSO电解质进行了三价稀土元素Nd和二价碱土元素Sr的La位掺杂,对合成样品进行XRD、SEM分析表征,并测试和分析了样品的电导率.结果表明:Sr、Nd掺杂对LSO的晶体结构、物相和形貌产生的影响很小,而适量的掺杂可有效提高LSO的氧离子传输性能.当掺杂x=0.3时,La9.33 Mx(SiO4 )6O2+δ (M=Sr、Nd)具有最高离子电导率,La9.33M0.3(SiO4)6 O2+δ在500℃时的电导率分别为7.248×10-3S·cm-1、1.782×10-2 S· cm-1.Nd掺杂不仅可以提高电导率,还可以降低传导活化能,相比于Sr掺杂更有利于LSO在中低温SOFCs中的应用.实验认为,Sr、Nd掺杂的LSO属于间隙氧传导机制,掺杂可以提高间隙氧的数量,间隙氧相比阳离子空位对LSO电导率的影响更大.
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文献信息
篇名
Sr和Nd掺杂对La9.33(SiO4)6O2电解质性能的影响
来源期刊
武汉工程大学学报
学科
生物学
关键词
燃烧合成
硅酸镧
固体电解质
掺杂
离子电导率
年,卷(期)
2011,(9)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
39-45
页数
分类号
Q611.4|Q653
字数
3983字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-2869.2011.09.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
黄志良
武汉工程大学材料与科学与工程学院
87
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陈亚男
武汉工程大学材料与科学与工程学院
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田兴
武汉工程大学材料与科学与工程学院
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胡威峰
武汉工程大学材料与科学与工程学院
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喻俊
武汉工程大学材料与科学与工程学院
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鲁冕
武汉工程大学材料与科学与工程学院
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硅酸镧
固体电解质
掺杂
离子电导率
研究起点
研究来源
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相关学者/机构
期刊影响力
武汉工程大学学报
主办单位:
武汉工程大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1674-2869
CN:
42-1779/TQ
开本:
大16开
出版地:
武汉市江夏区流芳大道特1号,武汉工程大学流芳校区,西北区1号楼504学报编辑部收
邮发代号:
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3719
总下载数(次)
13
总被引数(次)
21485
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