纳米压印抗粘性技术研究进展

• 作者: 叶舟 朱军
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印 抗粘性 氟化自组装单分子层 类金刚石碳膜
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 声表面波及体声波技术
• 页码范围: 21-25,29
• 分类号: TN304
• 字数: 490字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2011.01.006

摘要

纳米压印是一种理想的光刻技术,它具有生产率和分辨率高的特点.脱模过程中,粘连限制了图形的精确转移,因此,抗粘连成为纳米压印技术需要解决的关键问题.氟化自组装单分子层是一种被广泛应用的抗粘连涂层,介绍和分析了其在耐热性和降解方面的最新研究进展.介绍了类金刚石碳膜、在光刻胶上喷涂脱模剂和含氟表面活化剂在纳米压印抗粘连研究上的进展,分析了这些方法所存在的问题及纳米压印抗粘连的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱军	上海交通大学微纳科学技术研究院	52	663	14.0	25.0
2	叶舟	上海交通大学机械与动力工程学院	2	47	1.0	2.0