蒙脱土有机化处理研究及其表征

• 作者: 杨玲 秦伟志
• 来源期刊: 甘肃科技
• 学科: 工学
• 关键词: 材料学 蒙脱土 低聚物 层间距 表征
• 年，卷（期）: 2011,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 68-70
• 分类号: TB321
• 字数: 2642字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0952.2011.08.023

摘要

随着社会和经济的快速发展,蒙脱土以其特有的结构被广泛地应用于各个领域.对其进行有机化处理后,可用于对高分子材料的改性.目前常用的方法是采用有机插层剂来扩大蒙脱土的层间距.通过选用适当的低聚物对已经用有机插层剂处理过的蒙脱土进一步处理,通过X-射线衍射仪和红外光谱仪表征,结果显示,处理后的蒙脱土的层间距进一步得到了扩大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨玲		8	18	2.0	4.0
2	秦伟志		4	17	1.0	4.0