基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术

• 作者: 李亚国 王健 许乔 谢瑞清 陈贤华 黄浩
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 光学元件 抛光 面形精度 压力分布 抛光垫
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 423-427
• 分类号: TQ171.73
• 字数: 2543字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112302.0423

摘要

为解决强激光系统中大口径光学元件抛光面形精度收敛困难的问题,提出了一种基于压力补偿原理的抛光面形快速收敛技术.利用独特的抛光垫修整技术,将抛光垫表面修整成特定形状,使工件与抛光垫的接触面产生不均匀的压力分布,并结合精确的抛光转速控制,以加快工件面形精度的收敛速度.实验结果表明,将抛光垫修整成微凸面形,可以有效避免抛光中元件过早塌边问题,能将大口径平面元件的初抛时间从数天缩短到6 h以内,元件面形精度提高到1个波长左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健		25	165	9.0	11.0
2	许乔		82	1074	17.0	27.0
3	陈贤华		11	72	6.0	8.0
4	谢瑞清		7	35	4.0	5.0
5	李亚国		6	44	4.0	6.0
6	黄浩		3	26	3.0	3.0