干胶膜在微图案制作中的应用研究

• 作者: 杜江 陶巍
• 来源期刊: 机电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 干胶膜 微图案 光刻
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 机电研究及设计制造
• 页码范围: 75-77
• 分类号: TN405.7
• 字数: 2599字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-4801.2011.04.027

摘要

采用干胶膜代替传统的光刻胶进行微图案的制备，并研究了工艺过程中的前烘时间、光刻时间、显影时间、显影液浓度等参数对微图案的影响。通过实验，研究发现当烘时间为30min、光刻时间为80s（光源为350W汞灯）、显影时间为90S、显影浓度为4％（显影液为Na2CO3溶液）时，可以成功制备出分辨率为50μm的图案线宽。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陶巍	厦门大学机电工程系	6	88	3.0	6.0
2	杜江	厦门大学机电工程系	5	79	2.0	5.0