多层膜聚光镜对 Schwarzschild 显微镜成像均匀性的影响

• 作者: 伊圣振 刘红杰 曹磊峰 朱京涛 王占山 王新 穆宝忠 翟梓融 蒋励 谷渝秋 黄怡
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: Schwarzschild显微镜 激光等离子体 聚光镜 Mo/Si多层膜 空间分辨力
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1259-1263
• 分类号: O434.1
• 字数: 2468字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112305.1259

摘要

提出了利用多层膜聚光镜提高 Schwarzschild 显微镜成像均匀性的方法.设计了聚光镜的光学结构,使80%的等离子体辐射能量会聚在约0.8 mm直径的范围内,根据成像系统的工作波长和光线在聚光镜表面的入射角度,设计了Mo/Si周期多层膜,制备了聚光镜光学元件,膜层周期厚度为9.64 nm,周期数为30,对18.2 nm波长的峰值反射率为51.7%.利用所设计的聚光镜作为照明系统,对Schwarzschild物镜进行了网格成像实验.结果表明:在1.2 mm视场内可以实现2.5μm的空间分辨力,并且完全消除了物镜中心遮拦所造成的像面光强分布不均匀性.