13.5nm Schwarzschild显微镜系统及成像实验

• 作者: 朱京涛 王占山 王新 穆宝忠 贺鹏飞 黄怡
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 成像系统 Schwarzschild成像显微镜 Mo/Si多层膜 滤波片 空间分辨率
• 年，卷（期）: 2011,（8）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 1709-1715
• 分类号: TH742.6
• 字数: 2677字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111908.1709

摘要

研制了工作波长为13.5 nm的Schwarzschild成像显微镜.从共轴两镜系统的基本理论出发,通过消除三级球差、彗差和像散设计了Schwarzschild物镜的光学初始结构,计算了物镜的光学传递函数.结果表明,物镜在士0.3 mm视场内像方空间分辨率可达550 lp/mm.根据工作波长和镜面的入射角度设计了Mo/Si周期多层膜反射镜,制作了Schwarzschild显微镜光学元件,多层膜元件对13.5 nm波长的反射率为61％.为了消除可见光和紫外光对系统成像的影响,设计并制备了材料为Zr,Si和Si3 N4的滤波片,该滤波片在13.5 nm处的透过率为21.1％.利用激光等离子体光源对60 lp/mm网格进行了成像实验,结果表明,系统在0.5 mm视场内的分辨率优于3μm,结论认为CCD探测器分辨率极限是影响成像实验分辨率的主要因素.