KF熔盐中钾插入石墨层间的电化学研究

• 作者: 刘东任 李旺兴 杨占红 罗英涛 邱仕麟
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 学科: 工学
• 关键词: 钾插层反应 石墨 熔盐 铝电解 KF
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 166-172
• 分类号: TG1
• 字数: 1375字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(11)60694-8

摘要

通过循环伏安法和计时安培法对1 163 K温度下钾与石墨在KF熔盐中的插层反应动力学进行研究.循环伏安研究结果表明钾与石墨在KF熔盐中的插层/脱嵌反应包括动力学因素.用可逆及准可逆理论对计时安培曲线进行分析,进一步确认钾插入石墨层间这一过程是由钾离子在石墨中的扩散和相变动力学共同控制的.用准可逆动力学方程对电流-时间瞬态曲线进行非线性拟合,求得插层反应的传递系数为0.364.通过扫描电镜对发生钾插层反应后的石墨表面进行分析,发现石墨基体被严重腐蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李旺兴	中国铝业公司郑州轻金属研究院	65	648	14.0	20.0
2	邱仕麟	中国铝业公司郑州轻金属研究院	30	94	6.0	7.0
3	罗英涛	中国铝业公司郑州轻金属研究院	44	158	9.0	11.0
4	杨占红	中南大学化学化工学院	62	417	12.0	16.0
5	刘东任	中南大学化学化工学院	9	129	6.0	9.0