一种FPGA抗辐射工艺映射方法研究

• 作者: 王伶俐 王颖 章淳 陈志辉
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 现场可编程门阵列 工艺映射 抗辐射 错误仿真 单粒子翻转
• 年，卷（期）: 2011,（11）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 2507-2512
• 分类号: TN47
• 字数: 3712字
• 语种: 中文

摘要

提出一种基于部分TMR和逻辑门掩盖的FPGA抗辐射工艺映射算法FDRMap,以及一个基于蒙特卡洛仿真的并行错误注入和仿真平台.该平台和算法已经应用到复旦大学自主研发的FPGA芯片FDP4软件流程的工艺映射模块.实验结果表明,FDRMap能够在增加14.06％LUT数目的前提下,降低电路的抗辐射关键度32.62％;与单纯采用部分TMR的方法相比,在节省12.23％的LUT数目同时,还能额外降低电路关键度12.44％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王颖	复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室	142	789	14.0	19.0
2	王伶俐	复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室	33	124	6.0	9.0
3	陈志辉	复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室	3	10	2.0	3.0
4	章淳	复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室	1	6	1.0	1.0