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摘要:
熔石英亚表面缺陷是光学材料低损伤阈值的主要因素之一.本文建立了熔石英亚表面三维球形杂质颗粒模型,采用三维时域有限差分方法对杂质附近的光场进行了数值模拟,分析了杂质的介电常数与尺寸对光强增强因子的影响,结果显示:介电常数小于熔石英的杂质,其光强增强因子不随尺寸、介电常数的改变而改变,均保持为4左右;当介电常数为6.0时,半径为1.5λ,2λ及2.5λ的杂质,相应的光强增强因子分别为50.1588,73.3904及102.9953,即增强因子随杂质尺寸的增大而增大;恰为球体的杂质比椭球体的杂质对入射光强的增强更大.因此,介电常数大于熔石英,且尺寸较大的球形杂质,其场增强非常明显.
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内容分析
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文献信息
篇名 熔石英亚表面杂质颗粒附近光场调制的三维模拟
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 杂质颗粒 三维时域有限差分 数值计算 光强增强因子
年,卷(期) 2011,(4) 所属期刊栏目 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
研究方向 页码范围 237-241
页数 分类号 O482.3
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 祖小涛 电子科技大学物理电子学院 111 627 12.0 17.0
3 李莉 电子科技大学物理电子学院 21 157 7.0 12.0
4 向霞 电子科技大学物理电子学院 27 116 6.0 9.0
5 花金荣 电子科技大学物理电子学院 3 39 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
杂质颗粒
三维时域有限差分
数值计算
光强增强因子
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物理学报
半月刊
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