不同灌水下限对黄瓜穴盘苗生长及生理指标的影响

• 作者: 李萍萍 王纪章 赵青松 高蓓
• 来源期刊: 农业工程学报
• 学科: 农学
• 关键词: 灌水 光合能力 叶绿素 黄瓜 穴盘苗
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 农业水土工程
• 页码范围: 31-35
• 分类号: S274.4
• 字数: 5375字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-6819.2011.06.006

摘要

为了给黄瓜工厂化穴盘育苗适宜灌溉下限指标提供参考,该文采用醋糟基质为穴盘育苗基质,以‘津优1号’黄瓜为材料,研究了以基部供水为灌水方式,不同灌水下限处理对黄瓜穴盘苗干物质积累、根系活力、光合能力及叶绿素荧光参数的影响.共设4个处理,灌水下限分别为基质饱和含水率的65％、55％、45％、35％.结果表明,以相对含水率55％作为灌水下限的黄瓜穴盘苗干物质积累量、主根长、根系活力,光合能力均显著高于其他处理,相对含水率为45％的下限处理处理次之,在基质相对含水率为45％～55％的下限处理范围内,有利于黄瓜穴盘苗生长,可以作为以醋糟为基质的黄瓜穴盘育苗的灌溉下限指标.