电化学沉积金属铜的分形枝晶生长控制与性能

• 作者: 唐朝江 唐永建 段涛 罗江山
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 化学
• 关键词: 分形结构 枝状晶体 多孔铜 电沉积
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 101-106
• 分类号: TQ153.3|O611
• 字数: 4147字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112301.0101

摘要

以CuSO4为前驱体,HCl为添加剂,采用电化学沉积方法,在室温条件下制得了μm级、面心立方结构分形铜的枝状晶体,研究了铜离子浓度、硫酸浓度、电流密度、沉积时间、氯离子浓度等实验参数对分形枝状铜晶体尺寸、结构的影响.结果表明:硫酸的浓度对铜沉积物结构无明显影响;随着Cu2浓度的不断增大,铜沉积物的分形效果越来越明显;增大电流密度(0.4～1.6 A·cm-2).铜沉积物由致密向多分枝的开放型转变;延长沉积时间(大于等于5 min),可获得含大量次级分枝铜的晶体;适当增加盐酸用量(0.05～0.20 mol/L),铜沉积物枝晶尺寸显著减小.最后讨论了分形枝晶铜在碱性条件下氧化甲醇的电化学性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	段涛	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	59	398	9.0	18.0
4	罗江山	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	67	469	11.0	16.0
7	唐朝江	西南科技大学极端条件物质特性实验室	1	8	1.0	1.0