N2-Ar射频放电表面氮化的等离子体特性模拟

• 作者: 孙倩 张连珠 杨莹 赵国明 赵海涛 郝莹莹
• 来源期刊: 核聚变与等离子体物理
• 学科: 物理学
• 关键词: N2-Ar射频放电 PIC/MC模型 氮等离子体
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 等离子体物理学
• 页码范围: 128-132
• 分类号: O539
• 字数: 3237字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0254-6086.2012.02.006

摘要

N2-Ar射频放电等离子体广泛应用于微电子工业的刻蚀、氮化物薄膜的制备及金属表面氮化等技术领域.开发了N2-Ar混合气体容性耦合射频放电PIC/MC自洽模型,模型主要描述了e-,N2+,N+,Ar+等主要带电粒子的行为分布.等离子体的碰撞过程分别考虑了带电粒子(e-,N2+,N+,Ar+)与基态中性N2分子和Ar原子的21种碰撞反应过程.模拟结果表明,在纯N2及N2-Ar混合气体容性耦合射频放电中,各种带电粒子的数密度都在等离子体区达到最大值,且氮分子离子为主要粒子；在N2容性耦合射频放电中,加入10％氩气时,N+平均能量有所增加,在射频电极处两种氮离子(N2+,N+)高能粒子所占比例增加.本研究对认识N2-Ar射频放电等离子体过程微观机理具重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张连珠	河北师范大学物理科学与信息工程学院	25	66	4.0	7.0
2	赵海涛	河北师范大学物理科学与信息工程学院	3	0	0.0	0.0
3	孙倩	河北师范大学物理科学与信息工程学院	2	0	0.0	0.0
4	郝莹莹	河北师范大学物理科学与信息工程学院	3	0	0.0	0.0
5	赵国明	河北师范大学物理科学与信息工程学院	3	4	1.0	2.0