Nd掺杂对BiFeO3薄膜微结构和电学性能的影响

• 作者: 孙璟兰 孟祥建 杨静 林铁 白伟 褚君浩 高成
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铁电薄膜 介电性能 Nd掺杂 漏电流
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 21-25
• 分类号: O469
• 字数: 5024字
• 语种: 中文

摘要

采用化学溶液方法,在LaNiO3/Si(100)衬底上生长了Nd掺杂的BiFeO3薄膜.XRD分析结果表明,随着Nd掺杂量的增加,薄膜晶格变小,Nd掺杂量为20％时,薄膜出现杂相.介电测试表明,随着Nd掺杂量的增加,介电常数和损耗减小,Nd掺杂量为2％的薄膜表现出很强的介电色散现象并出现介电损耗弛豫峰,其符合类德拜模型特征.随着Nd掺杂量增加,薄膜的漏电流减小,在低电场下,电流输运遵从SCLC模型,在高场下,电流输运遵循Poole-Frenkel模型.分析结果表明Nd掺杂对薄膜微结构和电学性能有显著影响.