高结晶度CrN纳米粒子掺杂的DLC薄膜的显微结构及力学性能

• 作者: 吴忠振 巩春志 杨士勤 田修波 程思达
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控放电 类金刚石薄膜 CrN 结晶度 力学性能
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 283-288
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00512

摘要

采用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积(HPPMS-PIID)和常规直流磁控溅射复合的方法设计制备了包含高结晶度的CrN纳米粒子的DLC薄膜,并对不同C靶电流时制备的CrN-DLC薄膜的形貌、结构及性能进行了研究.结果表明,随C靶电流的增加,薄膜中的含C量增加,在较高的C含量时形成了明显的DLC薄膜特征,掺杂相主要成分为高度200择优取向的CrN纳米晶,其最小晶粒尺寸为42.39 mn.薄膜中的C主要以C-sp2,C-sp3和CN-sp3键的形式存在,sp3键的总含量为sp2总含量的44.8％.所制备的薄膜具有很好的膜基结合力(临界载荷Lc=66.8 N)和较高的纳米硬度(最高达24.3 GPa).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巩春志		69	320	9.0	14.0
2	田修波		106	515	11.0	17.0
3	杨士勤		93	787	14.0	22.0
4	吴忠振		8	97	4.0	8.0
5	程思达		1	0	0.0	0.0