非晶硅薄膜太阳能电池的紫外激光刻蚀工艺

• 作者: 吕启涛 吴煜文 张庆茂 张超 郭亮
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 航空航天
• 关键词: 激光刻蚀 非晶硅薄膜 热效应 隔离电阻 晶化
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 2751-2756
• 页数: 6页
• 分类号: V261.8
• 字数: 3538字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122411.2751

摘要

为提高电池的光电转换效率,通过改善激光刻蚀工艺,采用355 nm紫外纳秒激光分别进行了ZnO:Al薄膜(AZO)刻蚀(P1)、非晶硅薄膜(α-Si)刻蚀(P2)和背电极刻蚀(P3)研究.采用万用表测量P1隔离电阻,采用电子扫描显微镜(SEM)和三维激光扫描仪测量刻槽的微结构和三维成像,激光拉曼散射光谱检测非晶硅薄膜刻蚀边缘的晶化.实验结果表明,当刻蚀速度600 mm/s,重复频率40 kHz,功率1.74W的紫外激光刻蚀ZnO:Al薄膜时,刻槽的隔离效果最佳,达20 MΩ；紫外激光刻蚀能够有效地减小激光热效应引起的热影响和刻槽边缘的晶化范围,提高非晶硅薄膜电池的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张庆茂	华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室	60	548	15.0	22.0
2	郭亮	华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室	37	162	7.0	12.0
6	吕启涛		3	25	2.0	3.0
7	吴煜文	华南师范大学广东省微纳光子功能材料与器件重点实验室	2	23	2.0	2.0