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摘要:
采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb( Mg1/3 Nb2/3)O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500℃时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2 μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500℃沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97~3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异.
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文献信息
篇名 弛豫铁电0.74Pb( Mg1/3Nb2/3)O3- 0.26PbTiO3薄膜的微结构和光学性能
来源期刊 红外与毫米波学报 学科 物理学
关键词 PMN-0.26PT铁电薄膜 折射率 消光系数
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 289-293
页数 分类号 O469
字数 618字 语种 中文
DOI 10.3724/SP.J.1010.2012.00289
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PMN-0.26PT铁电薄膜
折射率
消光系数
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期刊影响力
红外与毫米波学报
双月刊
1001-9014
31-1577/TN
大16开
上海市玉田路500号
4-335
1982
chi
出版文献量(篇)
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3
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28003
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