高强度铝合金微等离子体电解氧化陶瓷质膜层影响因素

• 作者: 卫中领 吴润 沈钰 苗景国 郝康达 陈秋荣
• 来源期刊: 轻合金加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 高强度铝合金 微等离子体电解氧化 陶瓷质氧化膜层 影响因素
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 表面处理工艺与设备
• 页码范围: 52-56
• 分类号: TG174.453
• 字数: 5638字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7235.2012.04.014

摘要

微等离子体电解氧化是在阳极氧化基础上发展起来的直接在轻合金表面原位生成γ-Al2 O3和α-Al2 O3陶瓷质膜的一项表面工程新技术.α-Al2 O3对陶瓷质膜层的性能起决定性作用,最大限度地促进α-Al2 O3的形成,是改善铝合金表面综合性能的关键.经过对国内近20个单位的调研,发现该技术在军工、航空、航天、机械等领域有着迫切的需求和广泛的应用前景,有望部分替代硬质氧化膜实现大规模生产.本文从基体材料、溶液特性及电参数三方面分析铝合金微等离子体氧化膜层的影响因素,重点分析基体合金元素对陶瓷质膜层的影响.指出该技术在高强度铝合金应用领域的发展方向并对其前景进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴润	武汉科技大学材料与冶金学院	100	247	9.0	11.0
2	卫中领	上海大学材料微结构重点实验室	19	215	8.0	14.0
4	陈秋荣	中国科学院嘉兴轻合金技术工程中心	25	154	8.0	11.0
5	沈钰	中国科学院嘉兴轻合金技术工程中心	14	43	4.0	5.0
6	苗景国	武汉科技大学材料与冶金学院	5	17	2.0	4.0
7	郝康达	武汉科技大学材料与冶金学院	7	30	2.0	5.0