十二烷基胺/高岭石插层复合物的合成及其表征

• 作者: 姬万滨 罗宏 谷宁杰 高莉
• 来源期刊: 青海大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 高岭石 十二烷基胺 插层复合物
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告与学术论文
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: O69
• 字数: 2319字
• 语种: 中文

摘要

利用极性有机大分子十二烷基胺插层高岭石,合成十二烷基胺/高岭石插层复合物.并运用XRD、FT-IR、TG、DSC等技术表征反应过程和产物特征.经十二烷基胺插层后,高岭石的doo1值由0.717 nm增加为2.280 nm,层间距增加1.563 nm,插层率为70％；十二烷基胺以NH基团与高岭石四面体Si-O基形成氢键；高岭石/十二烷基胺插层复合物在215℃以下是稳定的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高莉	青海大学机械工程学院	28	184	8.0	12.0
2	谷宁杰	青海大学机械工程学院	2	5	2.0	2.0
3	姬万滨	青海大学机械工程学院	1	2	1.0	1.0
4	罗宏	青海大学机械工程学院	1	2	1.0	1.0