材料表面处理用强流电子回旋共振离子源

• 作者: 彭士香 明建川 郭之虞
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 电子回旋共振离子源 微波窗 表面处理 引出系统
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 2911-2914
• 页数: 4页
• 分类号: TL503.3
• 字数: 1984字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122412.2911

摘要

介绍一台2.45 GHz永磁强流电子回旋共振离子源,其外径160 mm,高90 mm,放电室直径70mm,高50 mm.微波馈人采用介质耦合方式,微波窗由一块φ50 mm×10 mm柱形BN和两块φ30 mm×10mm的柱形陶瓷构成.离子源工作在脉冲模式下,采用三电极引出系统,最高引出电压达到100 kV,在微波输入功率300 W、进气量0.4 mL/min时,可引出峰值超过30 mA的氮离子束,在距离离子源引出孔1200mm位置处的束流均匀区直径大于200 mm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭之虞	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	24	239	8.0	15.0
2	彭士香	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	5	20	1.0	4.0
3	明建川	北京大学核物理与核技术国家重点实验室	1	1	1.0	1.0