丝裂霉素C对LASEK术后Haze形成及角膜基质细胞的影响

• 作者: 于海群 原越 张泳 朱伟 陶祥臣
• 来源期刊: 山东大学耳鼻喉眼学报
• 学科: 医学
• 关键词: 丝裂霉素C 准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术 haze 角膜基质细胞
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 山东省第七届视光学学术研讨会专栏
• 页码范围: 3-5
• 页数: 3页
• 分类号: R778
• 字数: 2194字
• 语种: 中文
• DOI: 10.6040/j.issn.1673-3770.2012.05.002

摘要

目的 探讨在准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术(LASEK)中,使用不同浓度丝裂霉素C(MMC)、作用不同时间,对Haze的形成及角膜基质细胞变化的影响.方法 40只兔(80眼),取随机一眼为实验眼,行LASEK术+MMC,对侧眼为手术对照组,仅行LASEK手术.实验眼又随机分为4组:T1组为0.02％的MMC作用10 s,T2组为0.02％的MMC作用30 s,T3组为0.08％的MMC作用10 s,T4组为0.08％的MMC作用30s.另设5兔(10眼)为正常对照组,不做任何手术及药物处理.术后观察Haze形成情况及并发症,并对角膜基质细胞凋亡进行实验研究.结果 术后1周内T1、T2、T3组角膜基本愈合,T4组仍有部分未愈合.术后1周,所有实验组的双眼角膜均有不同程度的Haze形成,其中T2、T3、T4组与手术对照组相比,差异有统计学意义(P＜0.05),而此实验三组之间差异无统计学意义(P＞0.05).T1组与手术对照组相比差异无统计学意义(P＞0.05).各组之间的角膜基质TUNEL阳性细胞数量差异均具有统计学意义(P＜0.05),PT4组＞PT3组＞PT2组＞PT1组＞P手术对照组.结论 MMC可以减少Haze形成,增加作用时间及浓度都会明显抑制Haze的形成,增强角膜基质细胞凋亡.浓度为0.08％,作用时间为30 s的MMC作用最明显,但其对于角膜的刺激作用较大,上皮修复时间较长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	原越		5	13	3.0	3.0
2	陶祥臣	山东大学附属省立医院眼科	9	22	3.0	4.0
3	张泳	山东大学附属省立医院眼科	10	18	3.0	3.0
4	于海群	潍坊医学院附属医院眼科	3	41	2.0	3.0
5	朱伟	济南市中心医院眼科	2	3	1.0	1.0