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铜薄膜作中间层的镁铝扩散焊接
铜薄膜作中间层的镁铝扩散焊接
作者:
尹凯
王仪宇
罗国强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
铜薄膜
扩散焊接
镁合金
铝合金
磁控溅射技术
摘要:
采用磁控溅射技术在变形镁合金表面沉积铜薄膜,将其作为中间层对变形镁合金和硬铝合金进行了低温扩散焊接研究.利用超声波显微镜、X射线衍射、扫描电镜、电子探针等对焊接接头界面区域的显微结构及物相等进行了研究.研究结果表明,在镁合金基体上沉积的Cu薄膜主要以(111)、(200)晶向上生长,薄膜表面平整、均匀、致密;在扩散焊接工艺条件焊接温度T=455℃、保温时间t=90 min、压力P=3 MPa下获得了质量较好的Mg/Al焊接接头.焊接接头界面区域由铝镁原子比分别为3∶2,1∶1,12∶17三层镁铝系金属间化合物构成,接头断裂破坏发生在镁铝系化合物层,断口呈现明显的脆性断裂特征.
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文献信息
篇名
铜薄膜作中间层的镁铝扩散焊接
来源期刊
武汉工程大学学报
学科
工学
关键词
铜薄膜
扩散焊接
镁合金
铝合金
磁控溅射技术
年,卷(期)
2012,(8)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
62-66
页数
分类号
TB31
字数
2356字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1674-2869.2012.08.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
罗国强
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
23
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王仪宇
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
3
14
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尹凯
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
1
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
铜薄膜
扩散焊接
镁合金
铝合金
磁控溅射技术
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
武汉工程大学学报
主办单位:
武汉工程大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1674-2869
CN:
42-1779/TQ
开本:
大16开
出版地:
武汉市江夏区流芳大道特1号,武汉工程大学流芳校区,西北区1号楼504学报编辑部收
邮发代号:
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3719
总下载数(次)
13
总被引数(次)
21485
期刊文献
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