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摘要:
采用磁控溅射技术在变形镁合金表面沉积铜薄膜,将其作为中间层对变形镁合金和硬铝合金进行了低温扩散焊接研究.利用超声波显微镜、X射线衍射、扫描电镜、电子探针等对焊接接头界面区域的显微结构及物相等进行了研究.研究结果表明,在镁合金基体上沉积的Cu薄膜主要以(111)、(200)晶向上生长,薄膜表面平整、均匀、致密;在扩散焊接工艺条件焊接温度T=455℃、保温时间t=90 min、压力P=3 MPa下获得了质量较好的Mg/Al焊接接头.焊接接头界面区域由铝镁原子比分别为3∶2,1∶1,12∶17三层镁铝系金属间化合物构成,接头断裂破坏发生在镁铝系化合物层,断口呈现明显的脆性断裂特征.
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关键词云
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文献信息
篇名 铜薄膜作中间层的镁铝扩散焊接
来源期刊 武汉工程大学学报 学科 工学
关键词 铜薄膜 扩散焊接 镁合金 铝合金 磁控溅射技术
年,卷(期) 2012,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 62-66
页数 分类号 TB31
字数 2356字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-2869.2012.08.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗国强 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 23 84 6.0 8.0
2 王仪宇 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 3 14 2.0 3.0
3 尹凯 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室 1 8 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
铜薄膜
扩散焊接
镁合金
铝合金
磁控溅射技术
研究起点
研究来源
研究分支
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武汉工程大学学报
双月刊
1674-2869
42-1779/TQ
大16开
武汉市江夏区流芳大道特1号,武汉工程大学流芳校区,西北区1号楼504学报编辑部收
1979
chi
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