化学沉铜高锰酸钾再生原理浅析

• 作者: 刘希元 周定忠 李飞宏 陈光宏 龙亚波
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 除钻污 高锰酸钾 再生器
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 孔化与电镀
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: TN41
• 字数: 2789字
• 语种: 中文

摘要

在化学沉铜工序中，为达到良好的除钻污效果，业界一般采用不断补充高锰酸钾来维持药水含量，但此作业方式不但消耗物料而且随着生产的不断进行也带来锰酸钾（六价锰）副产物的增多，这将导致逐步失去除钻污效果从而造成除钻污不净，本文从高锰酸钾法除钻污和再生器原理，相关参数、再生器设计及维护等方面进行介绍，并从中找出一种维持高锰酸钾七价锰含量的方法，从而解决生产过程中因高锰酸钾含量不足、稳定性差的问题，保证沉铜品质。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周定忠		7	2	1.0	1.0
2	陈光宏		3	0	0.0	0.0
3	李飞宏		2	0	0.0	0.0
4	龙亚波		2	0	0.0	0.0
5	刘希元		1	0	0.0	0.0