熔融法制备高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物

• 作者: 赵锐先
• 来源期刊: 化工新型材料
• 学科: 交通运输
• 关键词: 高岭石 2-吡啶甲酸 插层
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 32-34
• 分类号: U214.7
• 字数: 3492字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-3536.2012.08.011

摘要

以高岭石/二甲亚砜(DMSO)作为前驱体,采用熔融插层法在130℃温度下制备了高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物,采用X射线衍射和Fourier变换红外光谱进行了表征.结果表明:高岭石/2-吡啶甲酸插层复合物中,高岭石的层间距由0.72nm扩张到1.409nm,插层率达到84％；在此基础上,分析了2-吡啶甲酸的插层机理,即2-吡啶甲酸分子中羰基与高峰石的内表面羟基形成了氢键,2-吡啶甲酸分子可能以单分子层近似垂直排列与高岭石层间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵锐先	中国矿业大学化工学院	3	27	2.0	3.0